產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
上海鑄金分析儀器有限公司可提供華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B參考圖片、參考報價、技術(shù)參數(shù)、相關(guān)配置等信息。除此產(chǎn)品之外，鑄金可根據(jù)您的實際需求，提供相關(guān)解決方案。如您對硬度計、顯微鏡、光譜儀、試驗機、試驗箱等實驗室檢測設(shè)備有需求均可聯(lián)系鑄金垂詢。
詳情介紹：
華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B主要特點：
手動轉(zhuǎn)塔；
無摩擦主軸，試驗力精度高；
高精度光學(xué)測量系統(tǒng)，精密坐標試臺；
中/英文界面轉(zhuǎn)換；
各種硬度值轉(zhuǎn)換；
試驗過程自動化，操作簡單，無人為操作誤差；
RS232數(shù)據(jù)接口；
可選配努氏壓頭進行努氏硬度試驗；
可選配CCD攝像裝置及圖像處理系統(tǒng)；
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E384.
華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B應(yīng)用范圍：
滲氮層、陶瓷、鋼、有色金屬；
薄板、金屬薄片、電鍍層、微波試件；
碳化層、脫碳層和淬火硬化層的深度測量；
適用于平行平面和微波零件及*薄零件的精密維氏測量。
華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B主要技術(shù)規(guī)格：
測量范圍：5-3000HV
試驗力：0.09807 0.2452 0.4903 0.9807 1.961 2.942 4.904 9.807N(10 25 50 100 200 300 500 1000克力)
硬度標尺:HV0.01 HV0.025 HV0.05 HV0.1 HV0.2 HV0.3 HV0.5 HV1
測量系統(tǒng)放大倍率：400X（測量） 100X（觀察）
*小檢測單位：0.01um
試樣允許*大高度：75mm
壓頭中心至機壁距離：110mm
電源：AC220V，50/60HZ
外型尺寸：470*320*500mm
重量：約40kg
華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B標準配備：
座標試臺：1個 細軸試臺：1個 薄板試臺：1個
平口鉗：1個 大V型塊、小V型塊：各1個
金剛石角錐壓頭：1個 標準顯微硬度塊：2塊 打印機：1個
手動轉(zhuǎn)塔；
無摩擦主軸，試驗力精度高；
高精度光學(xué)測量系統(tǒng)，精密坐標試臺；
中/英文界面轉(zhuǎn)換；
各種硬度值轉(zhuǎn)換；
試驗過程自動化，操作簡單，無人為操作誤差；
RS232數(shù)據(jù)接口；
可選配努氏壓頭進行努氏硬度試驗；
可選配CCD攝像裝置及圖像處理系統(tǒng)；
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E384.
華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B應(yīng)用范圍：
滲氮層、陶瓷、鋼、有色金屬；
薄板、金屬薄片、電鍍層、微波試件；
碳化層、脫碳層和淬火硬化層的深度測量；
適用于平行平面和微波零件及*薄零件的精密維氏測量。
華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B主要技術(shù)規(guī)格：
測量范圍：5-3000HV
試驗力：0.09807 0.2452 0.4903 0.9807 1.961 2.942 4.904 9.807N(10 25 50 100 200 300 500 1000克力)
硬度標尺:HV0.01 HV0.025 HV0.05 HV0.1 HV0.2 HV0.3 HV0.5 HV1
測量系統(tǒng)放大倍率：400X（測量） 100X（觀察）
*小檢測單位：0.01um
試樣允許*大高度：75mm
壓頭中心至機壁距離：110mm
電源：AC220V，50/60HZ
外型尺寸：470*320*500mm
重量：約40kg
華銀數(shù)顯顯微硬度計HVS-1000B標準配備：
座標試臺：1個 細軸試臺：1個 薄板試臺：1個
平口鉗：1個 大V型塊、小V型塊：各1個
金剛石角錐壓頭：1個 標準顯微硬度塊：2塊 打印機：1個
